ea 上星期报导，韩国本乡企业在 EUV 光刻技能方面获得了极大发展。但并未提及是哪一家公司，合理估测应指代韩国整个

  EUV 光刻技能是多种先进的技能的复合体，例如多层反射镜，多层掩模，防护膜，光源和注册表（registries）。

  在曩昔的十年中，包含在内的全球公司做了深化的研讨和开发，以保证技能处于领头羊。最近，代工公司（意指三星）开始运用 5 纳米 EUV 光刻技能来出产智能手机的运用处理器（AP）。

  按公司区分，全球六大公司的专利请求数占了总数的 59%，卡尔蔡司（德国）占 18%，三星电子（韩国）占 15%，ASML（荷兰）占 11%，S&STech（韩国）占 8%。），台积电（台湾）为 6%，SK 海力士（韩国）为 1%。

  从详细的技能项目来看，曝光设备技能请求专利占 31%，掩膜技能请求专利占 28%，其他请求专利占 9%。在工艺技能范畴，三星电子占 39%，台积电占 15%。在光罩范畴，S&S科技占 28%，Hoya（日本）占 15%，汉阳大学 （韩国）占 10%，朝日玻璃 （日本）占 10%，三星电子占 9%。

  IT之家了解到，韩媒还提到了韩国专利数量，据韩国知识产权局 （KIPO）发布的《近 10 年 （2011-2020 年）专利请求报告》显现，2019 年，韩国提交的专利请求数量为 40 件，超越了国外企业的 10 件。

  韩媒称这是韩国提交的专利请求量初次超越国外企业。到 2020 年，韩国提交的专利请求也将是国外企业请求的两倍以上。

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